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Películas delgadas de Cu-S obtenidas por depósito químico y su tratamiento post -depósito

Se llevó a cabo el depósito químico de películas delgadas de sulfuro de cobre a una temperatura de 28ºC. Este material recién depositado no presenta picos de difracción de rayos-x, y se le proporcionaron dos tratamientos diferentes, por plasma de nitrógeno y tratamiento térmico en vacío, para provoc...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales: Santiago, G. C., Calixto-Rodríguez, M., González, Michelle, Altuzar, P., Martínez, H.
Formato: Artículo
Lenguaje:español
Publicado: Universidad Autónoma de Nuevo León 2018
Materias:
películas delgadas
sulfuro de cobre
tratamiento por plasmas
tratamiento térmico
Acceso en línea:https://quimicahoy.uanl.mx/index.php/r/article/view/113

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