Películas delgadas de Cu-S obtenidas por depósito químico y su tratamiento post -depósito
Se llevó a cabo el depósito químico de películas delgadas de sulfuro de cobre a una temperatura de 28ºC. Este material recién depositado no presenta picos de difracción de rayos-x, y se le proporcionaron dos tratamientos diferentes, por plasma de nitrógeno y tratamiento térmico en vacío, para provoc...
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| Formato: | Artículo |
| Lenguaje: | spa |
| Publicado: |
Universidad Autónoma de Nuevo León
2018
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://quimicahoy.uanl.mx/index.php/r/article/view/113 |