Películas delgadas de Cu-S obtenidas por depósito químico y su tratamiento post -depósito

Se llevó a cabo el depósito químico de películas delgadas de sulfuro de cobre a una temperatura de 28ºC. Este material recién depositado no presenta picos de difracción de rayos-x, y se le proporcionaron dos tratamientos diferentes, por plasma de nitrógeno y tratamiento térmico en vacío, para provoc...

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Bibliographic Details

Main Authors:	Santiago, G. C., Calixto-Rodríguez, M., González, Michelle, Altuzar, P., Martínez, H.
Format:	Article
Language:	Spanish
Published:	Universidad Autónoma de Nuevo León 2018
Subjects:	películas delgadas sulfuro de cobre tratamiento por plasmas tratamiento térmico
Online Access:	https://quimicahoy.uanl.mx/index.php/r/article/view/113