Películas delgadas de Cu-S obtenidas por depósito químico y su tratamiento post -depósito

Se llevó a cabo el depósito químico de películas delgadas de sulfuro de cobre a una temperatura de 28ºC. Este material recién depositado no presenta picos de difracción de rayos-x, y se le proporcionaron dos tratamientos diferentes, por plasma de nitrógeno y tratamiento térmico en vacío, para provoc...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos

Autores principales:	Santiago, G. C., Calixto-Rodríguez, M., González, Michelle, Altuzar, P., Martínez, H.
Formato:	Artículo
Lenguaje:	español
Publicado:	Universidad Autónoma de Nuevo León 2018
Materias:	películas delgadas sulfuro de cobre tratamiento por plasmas tratamiento térmico
Acceso en línea:	https://quimicahoy.uanl.mx/index.php/r/article/view/113