Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados
Por medio de espectroscopia de fotoemisión de rayos X (XPS por sus siglas en inglés: “X-ray Photoelectron Spectroscopy”) se estudiaron las propiedades electrónicas de siliciuros de Co y Ni, así como con cálculos teóricos de densidad de estados y estructura de bandas. Los cálculos se llevaron a...
Autor principal: | |
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Formato: | Artículo |
Lenguaje: | inglés |
Publicado: |
2006
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Materias: | |
Acceso en línea: | http://eprints.uanl.mx/1714/1/ARTICULOPELICULASDELGADAS.pdf |
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author | García Méndez, Manuel |
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X (XPS por sus siglas en inglés: “X-ray
Photoelectron Spectroscopy”) se estudiaron las propiedades
electrónicas de siliciuros de Co y Ni, así
como con cálculos teóricos de densidad de estados
y estructura de bandas. Los cálculos se llevaron a
cabo para CoSi2 y NiSi2. De los cálculos realizados
se obtiene que la hibridación de orbítales es más
fuerte en el caso del siliciuro de Co que para el
siliciuro de Ni. Los corrimientos químicos en energía
de enlace de las transiciones Co2p3/2 y Ni2p3/2,
en los espectros XPS, muestran evidencia del enlace
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