Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados

Por medio de espectroscopia de fotoemisión de rayos X (XPS por sus siglas en inglés: “X-ray Photoelectron Spectroscopy”) se estudiaron las propiedades electrónicas de siliciuros de Co y Ni, así como con cálculos teóricos de densidad de estados y estructura de bandas. Los cálculos se llevaron a...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor principal: García Méndez, Manuel
Formato: Artículo
Lenguaje:inglés
Publicado: 2006
Materias:
Acceso en línea:http://eprints.uanl.mx/1714/1/ARTICULOPELICULASDELGADAS.pdf
_version_ 1824368021049704448
author García Méndez, Manuel
author_facet García Méndez, Manuel
author_sort García Méndez, Manuel
collection Repositorio Institucional
description Por medio de espectroscopia de fotoemisión de rayos X (XPS por sus siglas en inglés: “X-ray Photoelectron Spectroscopy”) se estudiaron las propiedades electrónicas de siliciuros de Co y Ni, así como con cálculos teóricos de densidad de estados y estructura de bandas. Los cálculos se llevaron a cabo para CoSi2 y NiSi2. De los cálculos realizados se obtiene que la hibridación de orbítales es más fuerte en el caso del siliciuro de Co que para el siliciuro de Ni. Los corrimientos químicos en energía de enlace de las transiciones Co2p3/2 y Ni2p3/2, en los espectros XPS, muestran evidencia del enlace covalente, resultado de la hibridación de orbitales.
format Article
id eprints-1714
institution UANL
language English
publishDate 2006
record_format eprints
spelling eprints-17142014-11-27T03:29:47Z http://eprints.uanl.mx/1714/ Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados García Méndez, Manuel T Tecnología en General Por medio de espectroscopia de fotoemisión de rayos X (XPS por sus siglas en inglés: “X-ray Photoelectron Spectroscopy”) se estudiaron las propiedades electrónicas de siliciuros de Co y Ni, así como con cálculos teóricos de densidad de estados y estructura de bandas. Los cálculos se llevaron a cabo para CoSi2 y NiSi2. De los cálculos realizados se obtiene que la hibridación de orbítales es más fuerte en el caso del siliciuro de Co que para el siliciuro de Ni. Los corrimientos químicos en energía de enlace de las transiciones Co2p3/2 y Ni2p3/2, en los espectros XPS, muestran evidencia del enlace covalente, resultado de la hibridación de orbitales. 2006 Article PeerReviewed application/pdf en http://eprints.uanl.mx/1714/1/ARTICULOPELICULASDELGADAS.pdf http://eprints.uanl.mx/1714/1.haspreviewThumbnailVersion/ARTICULOPELICULASDELGADAS.pdf García Méndez, Manuel (2006) Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados. Ciencia UANL, 9 (3). ISSN 1405-9177
spellingShingle T Tecnología en General
García Méndez, Manuel
Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados
thumbnail https://rediab.uanl.mx/themes/sandal5/images/online.png
title Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados
title_full Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados
title_fullStr Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados
title_full_unstemmed Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados
title_short Caracterización de películas delgadas metálicas por medio de xps y cálculo de densidad de estados
title_sort caracterizacion de peliculas delgadas metalicas por medio de xps y calculo de densidad de estados
topic T Tecnología en General
url http://eprints.uanl.mx/1714/1/ARTICULOPELICULASDELGADAS.pdf
work_keys_str_mv AT garciamendezmanuel caracterizaciondepeliculasdelgadasmetalicaspormediodexpsycalculodedensidaddeestados