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Influencia de la potencia de depósito en la morfología de películas delgadas de óxidos de molibdeno depositadas por el método de sputtering.

En este trabajo se presenta la influencia de la potencia en el depósito por sputtering en la morfología de películas delgadasde óxidos de molibdeno. Las películas fueron depositadas variando la potencia de depósito en 10, 20, 30, 40 y 50 W, endonde los espesores de las películas fueron de 46, 72, 21...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores principales:	Mora-Leyva, A. N., Alfaro Cruz, M. R., Torres-Martínez, Leticia M.
Formato:	Artículo
Lenguaje:	español
Publicado:	Universidad Autónoma de Nuevo León 2022
Materias:	óxidos de molibdeno películas delgadas sputtering morfología
Acceso en línea:	https://quimicahoy.uanl.mx/index.php/r/article/view/295

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