Influencia de la potencia de depósito en la morfología de películas delgadas de óxidos de molibdeno depositadas por el método de sputtering.
En este trabajo se presenta la influencia de la potencia en el depósito por sputtering en la morfología de películas delgadasde óxidos de molibdeno. Las películas fueron depositadas variando la potencia de depósito en 10, 20, 30, 40 y 50 W, endonde los espesores de las películas fueron de 46, 72, 21...
| Autores principales: | , , |
|---|---|
| Formato: | Artículo |
| Lenguaje: | spa |
| Publicado: |
Universidad Autónoma de Nuevo León
2022
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | https://quimicahoy.uanl.mx/index.php/r/article/view/295 |