| Summary: | Se utilizó la técnica de erosión iónica reactiva para
fabricar un conjunto de películas delgadas de nitruro
de aluminio (AlN) a temperatura ambiente.
Las muestras se analizaron por medio de difracción
de rayos X y de espectroscopia de fotoemisión
de electrones (XPS: X-ray photoemission
spectroscopy) para analizar sus propiedades estructurales
y electrónicas, respectivamente. Dependiendo
de las condiciones experimentales de depósito,
las películas presentan crecimiento
policristalino de microestructura hexagonal (tipo
wurzita, simetría P63m3) o cúbica (tipo zincblenda,
simetría Fm3m). Durante el depósito, el
oxígeno compite con el nitrógeno en términos
energéticos para enlazarse con el aluminio, tal
como lo sugiere el análisis por XPS. Asimismo, el
oxígeno puede inducir en las muestras un grado
de crecimiento amorfo.
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