Caracterización de películas delgadas de nitruro de aluminio (AlN) fabricadas por la técnica de erosión iónica
Se utilizó la técnica de erosión iónica reactiva para fabricar un conjunto de películas delgadas de nitruro de aluminio (AlN) a temperatura ambiente. Las muestras se analizaron por medio de difracción de rayos X y de espectroscopia de fotoemisión de electrones (XPS: X-ray photoemission spectro...
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|---|---|
| Formato: | Artículo |
| Lenguaje: | inglés |
| Publicado: |
2008
|
| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://eprints.uanl.mx/1848/1/PELICULASDELGADAS.pdf |
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| author | García Méndez, Manuel Morales Rodríguez, Santos Cruz Hernández, Wencel de La Ramírez Vidaurri, Luciano Eliézer |
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| description | Se utilizó la técnica de erosión iónica reactiva para
fabricar un conjunto de películas delgadas de nitruro
de aluminio (AlN) a temperatura ambiente.
Las muestras se analizaron por medio de difracción
de rayos X y de espectroscopia de fotoemisión
de electrones (XPS: X-ray photoemission
spectroscopy) para analizar sus propiedades estructurales
y electrónicas, respectivamente. Dependiendo
de las condiciones experimentales de depósito,
las películas presentan crecimiento
policristalino de microestructura hexagonal (tipo
wurzita, simetría P63m3) o cúbica (tipo zincblenda,
simetría Fm3m). Durante el depósito, el
oxígeno compite con el nitrógeno en términos
energéticos para enlazarse con el aluminio, tal
como lo sugiere el análisis por XPS. Asimismo, el
oxígeno puede inducir en las muestras un grado
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| institution | UANL |
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