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Depósito de películas de polianilina con patrones mediante polimerización in situ confinada en capilares.

En este trabajo se propone un método para depositar polianilina en patrones definidos sobre sustratos de silicio, combinando las técnicas de micromoldeo en capilares (MIMIC) y polimerización química in situ de anilina.

Bibliographic Details
Main Authors:	Alvarado Tenorio, Germán, Reyes Betanzo, Claudia, Sepúlveda Guzmán, Selene, Agarwal, Vivechana, Cruz Silva, Rodolfo
Format:	Article
Language:	Spanish / Castilian
Published:	Universidad Autónoma de Nuevo León 2008
Subjects:	TP Tecnología Química
Online Access:	http://eprints.uanl.mx/10381/1/39_deposito.pdf

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