Depósito de películas de polianilina con patrones mediante polimerización in situ confinada en capilares.
En este trabajo se propone un método para depositar polianilina en patrones definidos sobre sustratos de silicio, combinando las técnicas de micromoldeo en capilares (MIMIC) y polimerización química in situ de anilina.
| Autores principales: | , , , , |
|---|---|
| Formato: | Artículo |
| Lenguaje: | Spanish / Castilian |
| Publicado: |
Universidad Autónoma de Nuevo León
2008
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| Materias: | |
| Acceso en línea: | http://eprints.uanl.mx/10381/1/39_deposito.pdf |